微下拉晶体成长法

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微下拉(μ-PD)方法是一种晶体生长技术,其基础是熔化物质通过坩埚底部的微通道连续传输。熔体的连续凝固在位于坩埚下方的液/固界面上进行。在稳定状态下,熔体和晶体都以恒定(但通常不同)的速度下拉。 许多不同类型的晶体通过这种技术生长,包括Y3Al5O12、Si、Si-Ge、LiNbO3、α-Al2O3、Y2O3、Sc2O3、LiF、CaF2、BaF2等。 用于大多数μ-PD晶体生长的标准程序已得到很...

微下拉晶体成长法

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微下拉 (μ-PD) 方法是一种晶体生长技术,其基础是熔化物质通过坩埚底部的微通道连续传输。 熔体的连续凝固在位于坩埚下方的液/固界面上进行。 在稳定状态下,熔体和晶体都以恒定(但通常不同)的速度下拉。

许多不同类型的晶体通过这种技术生长,包括 Y3Al5O12、Si、Si-Ge、LiNbO3、α-Al2O3、Y2O3、Sc2O3、LiF、CaF2、BaF2 等。

晶体生长常规

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用于大多数 μ-PD 晶体生长的标准程序已得到很好的发展。 生长的一般阶段包括:

微下拉晶体成长法

  • 半月板的形成和种子顶部的部分熔化
  • 通过适当调整坩埚温度和晶种位置来修正弯液面的形状
  • 通过向下拉晶种生长晶体
  • 从弯液面分离生长的晶体
  • 系统(包括晶体和坩埚)冷却至室温

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  2. 晶体生长常规

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