X光散射技术

X光散射技术是一系列非破坏性分析技术，可揭示有关材料和薄膜的晶体结构、化学成分和物理特性的信息。 这些技术基于观察 X 射线束撞击样品的散射强度作为入射角和散射角、偏振以及波长或能量的函数。

请注意，X 射线衍射现在通常被认为是 X 射线散射的子集，其中散射是弹性的，散射物体是结晶的，因此所得图案包含通过 X 射线晶体学分析的尖点（如 数字）。 然而，散射和衍射都是相关的一般现象，并不总是存在区别。 因此 Guinier 1963 年的经典著作标题为 X 射线衍射在晶体、不完美晶体和无定形体中，因此“衍射”显然不限于当时的晶体。

• X 射线衍射或更具体地说是广角 X 射线衍射 (WAXD)
• 小角度 X 射线散射 (SAXS) 通过测量散射角 2θ 接近 0° 时的散射强度来探测纳米到微米范围内的结构。
• X 射线反射率是一种用于确定单层和多层薄膜的厚度、粗糙度和密度的分析技术。
• 广角 X 射线散射 (WAXS)，一种专注于大于 5° 的散射角 2θ 的技术。

在 IXS 中，监测非弹性散射 X 射线的能量和角度，给出动态结构因子 S ( q , ω ) {\displaystyle S(\mathbf {q} ,\omega )} 。 由此可以获得材料的许多特性，具体特性取决于能量转移的规模。 下表，列出技术，改编自。 非弹性散射的 X 射线具有中间相，因此原则上不适用于 X 射线晶体学。 实际上，由于弹性散射，具有小能量转移的 X 射线包含在衍射点中，而具有大能量转移的 X 射线有助于衍射图案中的背景噪声。