旋转涂覆

旋转涂膜是一种用于将均匀薄膜沉积到平面基板上的程序。 通常在低速旋转或根本不旋转的基材中心涂上少量涂层材料。 然后以高达 10,000 rpm 的速度旋转基材，以通过离心力铺展涂层材料。 用于旋涂的机器称为旋涂机，或简称为旋涂机。

继续旋转，同时流体从基板边缘旋转，直到达到所需的薄膜厚度。 施加的溶剂通常是挥发性的，并且同时蒸发。 旋转角速度越高，薄膜越薄。 薄膜的厚度还取决于溶液的粘度和浓度，以及溶剂。 旋涂的开创性理论分析由 Emslie 等人进行，并被许多后来的作者扩展（包括研究旋涂扩散速率的 Wilson 等人；他们发现了 预测沉积膜厚度的通用描述）。

旋转涂膜广泛用于使用溶胶-凝胶前体在玻璃或单晶基板上微细加工功能性氧化物层，可用于制造纳米级厚度的均匀薄膜。 它广泛用于光刻，沉积约 1 微米厚的光刻胶层。 光刻胶通常以每秒 20 到 80 转的速度旋转 30 到 60 秒。 它还广泛用于制造由聚合物制成的平面光子结构。

旋涂薄膜的优点之一是薄膜厚度的均匀性。 由于自流平，厚度变化不超过 1%。 然而，旋涂较厚的聚合物和光致抗蚀剂膜会导致相对较大的边缘珠，其平面化具有物理限制。