薄层电阻
编辑薄层电阻,通常被称为片材的电阻率,是衡量电阻薄膜是在厚度标称均匀的。它通常用于表征由半导体掺杂、金属沉积、电阻膏印刷和玻璃涂层制成的材料。这些过程的示例是:掺杂的半导体区域(例如,硅或多晶硅),以及丝网印刷在厚膜混合微电路基板上的电阻器。
薄层电阻与电阻或电阻率不同,其实用性是使用四端子感应测量(也称为四点探针测量)直接测量,或使用基于非接触式涡流的测试设备间接测量。薄层电阻在薄膜触点的缩放比例下是不变的,因此可以用来比较尺寸明显不同的器件的电性能。
薄层电阻的测量
编辑使用四点探针来避免接触电阻,该电阻通常具有与薄层电阻相同的大小。通常,将恒定电流施加到两个探头,并使用高阻抗电压表测量其他两个探头上的电势。需要根据四点阵列的形状应用几何因子。两个常见的阵列是正方形和串联。
也可以通过将高电导率母线施加到正方形(或矩形)样品的相对边缘来进行测量。正方形区域的电阻将以Ω/ sq为单位。对于矩形,添加适当的几何因子。母线必须进行欧姆接触。
也使用电感式测量。该方法测量由涡流产生的屏蔽效果。在该技术的一种形式中,将被测导电片放置在两个线圈之间。这种非接触式薄层电阻测量方法还可以表征封装的薄膜或具有粗糙表面的薄膜。
一种非常粗糙的两点探针法是在探针靠近的情况下测量电阻,在探针相距较远的情况下测量电阻。这两个电阻之间的差异约为薄层电阻的数量级。
典型应用
编辑薄层电阻测量通常用于表征导电或半导电涂层和材料的均匀性,例如用于质量保证。典型应用包括对建筑玻璃、晶片、平板显示器、聚合物箔、OLED、陶瓷等金属、TCO、导电纳米材料或其他涂层的在线过程控制。接触四点探针通常用于单点测量坚硬或粗糙的材料。非接触式涡流系统适用于敏感或封装的涂层,在线测量和高分辨率制图。
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