单片微波集成电路

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单片微波集成电路或MMIC(有时称为“模拟”)是一种以微波频率(300 MHz至300 GHz)工作的集成电路(IC)设备。这些设备通常执行诸如微波混合,功率放大,低噪声放大和高频切换之类的功能。MMIC设备上的输入和输出通常与50欧姆的特性阻抗匹配。这使它们更易于使用,因为级联的MMIC不需要外部匹配网络。此外,大多数微波测试设备都设计为在50欧姆的环境中运行。 单片微波集成电...

单片微波集成电路

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单片微波集成电路或MMIC(有时称为“模拟”)是一种以微波频率(300 MHz至300 GHz)工作集成电路(IC)设备。这些设备通常执行诸如微波混合,功率放大,低噪声放大和高频切换之类的功能。MMIC设备上的输入和输出通常与50欧姆的特性阻抗匹配。这使它们更易于使用,因为级联的MMIC不需要外部匹配网络。此外,大多数微波测试设备都设计为在50欧姆的环境中运行。

单片微波集成电路

单片微波集成电路尺寸很小(从1平方毫米到10平方毫米),并且可以批量生产,这使诸如手机之类的高频设备得以普及。MMIC最初是使用砷化镓(GaAs)(一种III-V化合物半导体)制造的。与传统实现IC的传统材料硅(Si)相比,它具有两个基本优势:器件(晶体管速度和半绝缘衬底。这两个因素都有助于设计高频电路功能。但是,随着晶体管特征尺寸的减小,基于Si的技术的速度逐渐提高,并且现在也可以采用Si技术来制造MMIC。Si技术的主要优点是与GaAs相比,其制造成本更低。硅晶片的直径更大(与GaAs的4“到8”相比,通常为8“到15”),晶片的成本更低,从而有助于降低IC的成本。

最初,MMIC使用金属半导体场效应晶体管(MESFET)作为有源器件。最近,高电子迁移率晶体管(HEMT),假晶型HEMT和异质结双极晶体管已变得很普遍。

磷化铟(InP)等其他III-V技术在增益,更高的截止频率和低噪声方面均表现出优于GaAs的性能。然而,由于较小的晶片尺寸和增加的材料易碎性,它们也往往更昂贵。

硅锗(SiGe)是一种基于Si的化合物半导体技术,与传统的Si器件相比,它提供了更高的晶体管速度,但具有相似的成本优势。

氮化镓(GaN)也是MMIC的一种选择。由于GaN晶体管可以比GaAs晶体管在更高的温度下工作并且可以在更高的电压下工作,因此它们是理想的微波频率功率放大器

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