对映体过量

在立体化学中，对映体过量（ee）是一种用于手性物质的纯度测量。它反映了一个样品中一个对映体的含量高于另一个对映体的程度。外消旋体混合物的ee值为0%，而一个完全纯净的对映体的ee值为xxx。一个样品中一个对映体含量为70%，另一个为30%，其e值为40%（70%-30%）。

对映体过量被定义为每个对映体的摩尔分数之间的xxx差异。ee=|FR-FS|{displaystyle{e=|F_{R}-F_{S}|}。其中FR+FS=1{displaystyle{F_{R}+F_{S}=1}}。在实践中，它最常被表示为对映体过量的百分比。(1)如果我们知道产生的每种对映体的数量，就可以用另一种方式确定对映体过量。如果知道每种对映体的生产摩尔数，那么。(2)对映体过量被用作衡量不对称合成成功与否的指标之一。对于非对映体的混合物，非对映体过量和非对映体过量百分比有类似的定义和用途。例如，一个R异构体占70%，S占30%的样品，其对映体过剩百分比为40。这也可以被认为是40%的纯R和60%的外消旋混合物（其中一半是30%的R，另一半是30%的S）的混合物。如果给定的对映体过量%ee{displaystyle%ee}混合物的对映体过量混合物中主要异构体的比例，比如说R，可以用以下方法确定FR=50+(%ee/2){displaystyleF_{R}=50+(%ee/2)}。和较小的异构体FS=50-(%ee/2){displaystyleF_{S}=50-(%ee/2)}..两个对映体的非外消旋混合物将有一个净光学旋转。有可能确定该混合物的比旋度，并且在知道纯对映体的比旋度后，可以确定光学纯度。光学纯度（%）=[α]obs/[α]max-100理想情况下，混合物中每种成分对总的旋光度的贡献与它的摩尔分数成正比，因此，光学纯度的数值与对映体的过量相同。这导致人们非正式地将这两个术语互换使用，特别是因为光学纯度是测量对映体过量的传统方法。然而，其他方法，如手性柱色谱法和核磁共振光谱法现在可以用来单独测量每个对映体的数量。

对映体过量和光学纯度之间的理想等价关系并不总是成立。比如说。(S)-2-乙基-2-甲基琥珀酸的特定旋转被发现与浓度有关，即所谓的Horeau效应，基于摩尔的e和基于光学旋转的e之间的关系可能是非线性的，即在琥珀酸的例子中，50%e的光学活性低于预期。对映体过量一词是由Morrison和Mosher于1971年在其出版物《不对称有机反应》中提出的。对映体过剩的使用已经确立，因为它与光学旋转有历史联系。有人建议用代表对映体比例或er(S:R)或q(S/R)的er概念取代ee的概念，因为光学纯度的测定已被其他直接测量R和S的技术所取代，而且它简化了数学处理，如平衡常数和相对反应速率的计算。同样的论点也适用于将非对映体过量（de）改为非对映体比率（dr）。